選擇產(chǎn)品分類
工業(yè)設(shè)備
高速乳化機
高速均質(zhì)機
研磨分散機
高速膠體磨
高速分散機
研磨機
濕磨機
濕法粉碎機
粉液混合機
攪拌機
真空乳化機
實驗室設(shè)備
研發(fā)設(shè)備
實驗室中試設(shè)備
高速膠體磨
膠體磨CM2000
三級錯齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款膠體磨比普通的膠體磨的速度達(dá)到到4-5倍以上，研磨效果好，轉(zhuǎn)速可以達(dá)到到14000RPM，可以達(dá)到到更好的分散濕磨效果。
高速膠體磨
膠體磨CMO2000
依肯獨特的創(chuàng)新，MO2000系列錐體磨（膠體磨），它的設(shè)計使其功能在原有的CM2000系列膠體磨的基礎(chǔ)上又進了一步。由于這項創(chuàng)新，CMO2000系列錐體磨（膠體磨）能夠濕磨和研磨，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比CM2000系列膠體磨還小，錐體磨（膠體磨）的研磨間隙可以無級調(diào)節(jié)，從而可以得到精確的研磨參數(shù)。
高速膠體磨
膠體磨CMD2000
CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求
高速膠體磨
膠體磨CMSD2000
CMSD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，形成的摩擦力比較劇烈，就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
高速膠體磨
膠體磨CMXD2000
圓椎形定轉(zhuǎn)子,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
研磨分散機
分散機CM2000
特別適合于膠體溶液、超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)，擁有可調(diào)節(jié)的定轉(zhuǎn)子間隙，可滿足不同行業(yè)多種需求。
研磨分散機
分散機CMO2000
CMO2000實在CM2000基礎(chǔ)上的進一步優(yōu)化產(chǎn)品，有著更新的技術(shù)創(chuàng)新。錐形刀具間隙可調(diào)節(jié)至最小，來減小顆粒粒徑，從而可獲更細(xì)的懸浮液。
研磨分散機
分散機CMD2000
是由膠體磨，分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，第一級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
研磨分散機
分散機CMSD2000
CMSD的線速度很高，剪切間隙非常小，凹槽在每級都可以改變方向，同時，高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料可滿足不同行業(yè)的多種要求